一、EVOCHEM 公司
EVOCHEM Advanced Materials
GmbH 自豪地推出其新的产品组合 - 涵盖纯金属和超纯金属，旨在满足行业的研发需求。
产品组合涵盖各种蒸发材料和配件、高效溅射靶材、晶体监测等。
EVOCHEM Advanced Materials 为薄膜应用提供大且全面的材料系列，包括光学和配件、磨损和装饰涂层、微电子和半导体、光学数据存储、显示器和太阳能电池。
溅射靶材，包括溅射靶材键合和回收
蒸发材料， 提供 60 多种蒸发材料
PVD 消耗品， 坩埚、舟和细丝
在 6MHz 和 5MHz 下监测 Au、Ag ，合金的晶体
蒸发盘管，为您的金属化项目
EVOCHEM 全面的产品组合为您的个性化应用提供解决方案。高纯度蒸发材料有助于实现您想要的涂层特性;其优化的熔炼性能提高了产量。低喷吐特性允许为关键应用提供低缺陷涂层。
我们提供用于溅射设备大且全面的材料系列，提供流行的几何形状（和尺寸），包括环形、S 型枪和圆形、矩形、三角形和平面目标。
EVOCHEM 还提供用于电子束蒸发器、离子源和热蒸发器的组件。产品范围包括坩埚、舟和细丝，这些坩埚、舟和细丝由与蒸发材料和溅射靶材相同的优质材料制成。
EVOCHEM 的纯金属和超纯金属新产品组合几乎包括从铝到锆的金属。这些金属的数量和形式范围很广，包括粉末、线材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的纯度范围为 99.00% - 99.999999%。
二、EVOCHEM 薄膜产品
1、 疏水材料-新一代防水防油材料
EVOCHEM的新超疏水产品线（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了卓越的工艺和薄膜性能。我们开发了复杂的材料，可以减少污垢和指纹在表面上的粘附，同时提高耐磨性。
新的超疏水片剂可以从电阻加热的船上沉积，也可以通过使用面涂层衬垫的电子束沉积。
主要产品特点：
防指纹和防污
超疏水–疏油–超光滑表面
适用于几乎全部基材
EVOCHEM ETC 将表面能降至最低，因此具有易于清洁的特性。此外，涂层（例如 AR 层）和基材本身受到非常光滑和耐磨的纳米层的保护。
ETC-产品范围
产品系列包括ETC-TOP、ETC-PRO、ETC-PRO UV+、ETC-PRO AB+。
EVOCHEM ETC-TOP 代表了我们 ETC 产品系列的入门级质量。高耐磨性和良好的易清洁性能使 ETC-TOP 产品系列成为非常好的疏水表面涂层。
EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行业的专用产品线。高耐磨性和易于清洁的表面使其成为全球领先眼科公司的best选择。我们强大的品牌和市场占有率也将成为您和您的客户的关键差异化因素。
EVOCHEM ETC-PRO UV+
EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我们的纳米涂层产品线，具有更高的耐气候要求。ETC-PRO UV+ 显著提高了紫外线照射下的耐污性和耐化学性 - 同时保持高度光滑的表面。即使在极端条件下（600 小时 QUV 和 990 小时氙弧灯），PRO UV+ 涂层物质的接触角也能保持在 >100°。
EVOCHEM ETC-PRO AB+
EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我们的疏水应用，在整个产品线中具有高的耐用性和光滑性。专用于满足对优质产品和基材的高要求。ETC-PRO AB+ 涂层基材可实现 >116°的水接触角。ETC-PRO AB+ 是具有卓越性能要求的高端纳米涂层的即用型应用。
EVOCHEM ETC 片剂非常易于处理以进行沉积。可以从各种电阻加热舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及间接电子束加热进行沉积。
EVOCHEM 片剂和载体的设计和制造均以实现性能。物理特性允许稳定和受控的涂层工艺，从而实现每次涂层运行的大产量。
EVOCHEM ETC 可以从电阻加热的舟中蒸发，也可以通过间接电子束加热蒸发。蒸发温度范围为 400 - 800°C（建议 600°C）。将 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可获得最佳效果，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂层的顶层）上。
应用： EVOCHEM ETC-TOP、EVOCHEM ETC-PRO、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作为即用型片剂提供，用于热气相沉积和电子束工艺，使用面涂层衬垫。或者，涂层可以通过湿化学工艺（浸渍、喷涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID。
作用方式：ETC 的一端与其分子链的一端形成共价、高度稳定的氧化物表面（例如 SiO2），而另一端（全氟化）则远离表面对齐。因此，ETC 将表面能降至低，因此具有易于清洁的特性。此外，涂层（例如 AR 层）和基材本身受到非常光滑和耐磨的纳米层的保护。EVOCHEM 的新产品组合已经符合最新的立法要求，其中产品或整个生产过程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）。
性能： 该材料通过气相沉积施加在 SiO2 层上，提供 117°的水接触角。在整个测试过程中，即使在 1 kg 压力下循环 8000 次后，接触角也不会低于 105°。ETC-LIQUID - 为手机和触摸显示器开发 - 已显示出更高的耐磨性。尽管表面粗糙度降低了约 85%，但镜片的成型可以很容易地进行，而无需对生产过程进行任何改变。研磨后，多项测试表明涂层完全松弛，表面没有留下“鬼痕”。
绿色生产：药丸以泡罩包装提供，每单位 12 片。每个包装的保质期为 6 个月。此外，我们的载体片剂可以重复使用大约 10 倍，从而进一步减少浪费和成本。
EVOCHEM 在制造过程中不使用或故意添加 PFOA、其盐类和 PFOA 相关化合物。因此，EVOCHEM 认为此类物质未包含在其产品中。EVOCHEM 有一个系统，可以定期检查其产品代表性样品中 PFOA、其盐类和 PFOA 相关化合物的含量，并可以确认这些样品符合修订后的 （EU） No 2020/784 法规。
2、溅射靶材
们提供大且全面的溅射靶材系列。提供流行的几何形状（和尺寸），包括环形、S 型枪和圆形、矩形、三角形和平面目标。
大多数溅射靶材可以制造成各种形状和尺寸。单件结构的尺寸存在一些技术限制。在这种情况下，可以产生多段目标，其中各个段通过对接或斜面接头连接在一起。
溅射靶材有多种成分、各种纯度水平可供选择，使我们的客户能够将靶材与其特定要求相匹配。
与电子束或热蒸发相比，溅射沉积具有可重复性和更简单的过程自动化等优点。已经开发了溅射技术的多种变体。通过氧化/氮化溅射金属离子，可以从金属溅射靶材上沉积光学薄膜，以沉积所需成分的氧化物或氮化物薄膜层。
直流磁控溅射是用于导电金属靶材的技术。氧化物（绝缘）溅射靶材可以通过射频溅射进行溅射，但速率较低。几乎任何材料合金、混合物、纯金属、氧化物、氮化物、硼化物、碳化物都可以作为溅射靶材提供。
EVOCHEM 提供各种高纯度金属溅射靶材– 纯度高达 99.9999%，包括铝，锑，硼，碳，铕等，可根据客户需求提供。
EVOCHEM 的产品包含各种氧化物溅射靶材，针对溅射工艺的要求进行了优化。我们的氧化物溅射靶材为光学镀膜工程师提供了更好的产量、工艺稳定性和更大的设计自由度。
EVOCHEM 提供广泛的化合物和混合物 –适合高、中、低折射率薄膜的应用和性能。
物理气相沉积工艺 （PVD 工艺） 是一种沉积工艺，其中蒸发材料以原子的形式从固体源蒸发，并以蒸汽的形式通过真空或低压（或等离子体）环境传输到蒸汽聚集的基材。
PVD 工艺可用于使用反应沉积工艺沉积元素（蒸发材料）和合金的薄膜。真空沉积是一种 PVD 工艺，其中来自热汽化源的蒸发材料到达基板，与气体分子几乎没有碰撞。真空沉积用于形成光学干涉涂层、镜面涂层、装饰涂层、导电薄膜（也称为 TCO 薄膜、ITO）、耐磨涂层和防腐蚀涂层。
3、高品质的蒸发材料
EVOCHEM 全面的蒸发材料产品组合为您的个性化应用提供解决方案。高纯度蒸发材料有助于实现您想要的涂层特性;其优化的熔炼性能提高了产量。低喷吐特性允许为关键应用提供低缺陷涂层。
独特的生产能力使我们能够定制制造任何所需的形状和纯度，数量从几克到几百公斤不等。使用专有涂层机进行持续的质量测试和控制，可实现零故障生产过程。
我们的蒸发材料代表了当今好的涂层材料，这些材料经过加工或专门开发，以满足科学实验、产品和工艺开发或全面生产的苛刻要求。
蒸发材料均随附与所提供批号相关的相应材料数据表 （MSDS）、RoHS 证书和分析证书 （COA）。
我们的产品范围包括 60 多种蒸发材料，包括混合物和物质，以及氟化物、氧化物、硫化物和金属，以颗粒、片剂或圆盘形式提供。
EVOCHEM还提供PVD 耗材等。
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